电压对tc4钛合金表面微弧氧化膜层红外发射率的影响-奇异果体育官网入口

在硅酸盐、磷酸盐及高锰酸钾的混合电解液中研究了不同电压对tc4钛合金微弧氧化膜层性能的影响,通过扫描电镜（sem）、x射线衍射（xrd）和x射线光电子能谱（xps）分析了膜层的微观形貌、相组成及化学成分,用傅里叶变换红外光谱仪测试了样品的红外发射率。结果表明,随着电压的升高,膜层的厚度、粗糙度及红外发射率持续增加,膜层中ti o2与ti的特征峰逐渐减弱,非晶相成为主要的组成部分。结合xrd与xps分析结果可推断膜层中主要元素si、p、mn均以非晶态存在。当电压为540 v时膜层发射率有较大幅度的增加并达到最大,在8-20μm的波段范围内平均发射率可达0.84。