微弧氧化膜层特点及该技术的优缺点分析-奇异果体育官网入口

微弧氧化膜层为表面多孔（孔径为几微米）、内部致密的陶瓷层。膜层硬度高（维氏硬度可由几百至三千左右）、膜层与基体为冶金结合、厚度在几微米至几百微米之间（文献报道为500微米，我们可以做到300微米左右，再厚膜层性能反而不好了，因为基体软，膜层脆。打比方，在棉花上放块薄的金刚石，结合力不好）。

微弧氧化技术优点：

电解液无污染、环保、膜层与基体结合力高、硬度高、耐磨耐腐蚀性能好、具有良好的热阻隔性能、不受试件形状限制（只要电解液能到的地方就能长膜），工艺简单（一般只需清水冲洗-微弧氧化-清水冲洗即可），处理效率高（少则几分钟，多也只需十几二十几分钟）

缺点：能耗高（一般微弧氧化工作电压在300v~700v之间，电流密度在5a/dm2以上，即一平方分米的面积，需要的功率通常在3kw以上，大面积需要的功率就特别大），所以也导致电费高。